磁性固位种植总义齿的应力分析 |
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作者姓名: | 魏素华 米乃元 |
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摘 要: | 「目的」了解磁性固位的下颌种植覆盖义齿的应力状况及其分布规律。为磁性固位体的临床应用提供生物力学依据。「方法」彩和二维光弹应力分析法,分析贺柱形种植体在垂直向和侧向加载条件下种植体一骨界面的应力状况。「结果」种植体应力主要为均匀分布的压应力,最大应力位于种植体根尖部,颈部应力相对较小,未见明显弯曲应力。「结论」磁性固位种植义齿的种植体应力分布符合生物力学要求,有利于种植体的长期成功。
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关 键 词: | 牙种植 种植总义齿 磁性固位 应力分析 |
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