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| 羟基磷灰石义眼台植入术后远期暴露临床分析 | |
| 作者姓名： | 韩 非 吴 燕 邱 敏 等 |
| 作者单位： | 成都军区总医院眼科,成都610083 |
| 摘 要： | 目的 分析羟基磷灰石（HA）义眼台植入术后远期暴露的原因及处理方法.方法 检查5例HA义眼台远期暴露病例的义眼片,取出义眼台,3个月后再次植入新的HA义眼台.结果 4例义眼片过大,3例义眼片结膜面粗糙;再次植入义眼台后随访36个月,结膜对合好,未见义眼台暴露.结论 过大的义眼片及其粗糙的表面可能是导致HA义眼台远期暴露的主要原因,重新植入HA义眼台,可以取得良好疗效. |
| 关 键 词： | 羟基磷灰石 义眼台 义眼片 远期暴露 |
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