三种不同全瓷系统底层冠适合性的比较

目的研究三种不同全瓷冠系统制作的底层冠边缘适合性。方法以金属烤瓷冠作为对照组,加工一个金属主代型,然后复制20个环氧树脂代型,随机分为4组,分别制作金属烤瓷冠、IPS-Empess(压铸瓷)全瓷、Cerec 3(椅旁牙科计算机辅助设计与辅助制作)全瓷、GI-Ⅱ(玻璃渗透氧化铝)全瓷底层冠各5个,用扫描电镜(SEM)来评价冠的适合性。结果各种全瓷系统边缘适合性之间有显著差异(P<0.05)Ⅰ,PS-Em-press 2系统制作的冠边缘的间隙最小,GI-Ⅱ系统制作全瓷冠的边缘间隙最大。结论三种全瓷系统底层冠的边缘适合性都在120μm临床接受的范围之内,IPS-Empess系统边缘间隙最小且均匀一致,边缘适合性最高,GI-Ⅱ系统边缘间隙最大且不均匀,适合性最差。