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目的:探索人上颌恒中切牙牙冠三维结构的建模方法,精确测量其釉质和牙本质解剖学参数。方法:选取牙冠形态、冠根比正常,无磨耗的西安地区人上颌恒中切牙30个,Micro CT扫描后,用Mimics和Geomagic Studio逆向工程软件重建上颌中切牙釉质帽、牙本质核和髓室三维模型,精确测量牙冠不同部位釉质和牙本质核的厚度以及近、远中髓角至各自切端和邻面的距离。结果:建立了人上颌中切牙釉质帽和牙本质核的三维模型,其厚度(mm)分别为:唇侧釉质(0.47±0.12)1.08±0.19,舌侧釉质(0.39±0.07)0.71±0.15;唇侧牙本质(0.46±0.09)2.17±0.48,舌侧牙本质(0.33±0.06)2.82±0.36,P﹤0.05;近中髓角至切端4.24±1.04,远中髓角至切端4.71±0.98;近中髓角至近中邻面2.09±0.26,远中髓角至远中邻面2.53±0.30,差异均有统计学意义(P﹤0.05)。结论:西安地区人上颌中切牙牙冠不同部位釉质帽和牙本质核厚度存在差异。 相似文献
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目的:研究纯钛表面制备可降解载药二氧化硅纳米颗粒的抗菌性能.方法:通过非模版法制备可降解载庆大霉素的二氧化硅纳米颗粒,采用纳米粒径分析仪和扫描电镜对纳米粒进行特征分析;将载药纳米粒振荡交联至纯钛微弧氧化处理后形成的微米级形貌表面,用扫描电镜进行形态观测;将处理前后的样品与金黄色葡萄球菌共培养,体外抑菌圈法考察抗菌性能;对载药二氧化硅纳米颗粒的抗菌涂层进行体外药物释放实验.结果:载药纳米粒为直径(298.1±12.2) nm的圆球状;通过振荡交联后固定在纯钛微弧氧化层火山口样的结构内形成抗菌涂层;体外抑菌圈大小为(16.7±1.4) mm,而对照组未观测到抑菌圈;载药二氧化硅纳米颗粒的抗菌涂层可有效释放庆大霉素长达28 d.结论:基于可降解二氧化硅纳米粒制备的抗菌涂层可实现庆大霉素的缓控释放,并对金黄色葡萄菌的生长起到抑制作用,有望在今后应用于种植体经皮部位的设计. 相似文献
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