氧等离子处理人工晶状体材料的生物相容性***

背景:氧等离子处理可有效改善双组分室温硫化硅橡胶人工晶状体材料表面的亲水性能和生物相容性,但等离子体聚合形成的薄膜可能产生卷曲和破裂或因与基质是非共价键结合而产生剥离,影响材料本身的理化性能和光学性能.目的:初步评价优选氧等离子处理表面改性后双组分室温硫化硅橡胶人工晶状体材料的体外生物相容性.方法:采用氧等离子体表面改性技术修饰疏水性双组分室温硫化硅橡胶人工晶状体材料的表面,处理功率及时间分别为:20 W、50 W、100 W和30 s、1 min、3 min、10 min.应用视频光学接触角测定仪、傅里叶变换衰减全反射红外光谱和X射线光电子能谱分析材料表面亲水性和表面化学元素组成;扫描电子显微镜和原子力显微镜观察材料表面形貌.通过人晶状体上皮细胞黏附实验观察双组分室温硫化硅橡胶表面改性前后细胞的数量及形态改变.结果与结论:最佳改性条件为100 W,30 s,20 mL/min,40 Pa.此条件改善了双组分室温硫化硅橡胶人工晶状体材料表面的亲水性,对材料表面无刻蚀作用,改善了人晶体上皮细胞在双组分室温硫化硅橡胶人工晶状体材料表面的生物相容性.     

氧等离子处理人工晶状体材料的生物相容性

背景：氧等离子处理可有效改善双组分室温硫化硅橡胶人工晶状体材料表面的亲水性能和生物相容性,但等离子体聚合形成的薄膜可能产生卷曲和破裂或因与基质是非共价键结合而产生剥离,影响材料本身的理化性能和光学性能。 目的：初步评价优选氧等离子处理表面改性后双组分室温硫化硅橡胶人工晶状体材料的体外生物相容性。 方法：采用氧等离子体表面改性技术修饰疏水性双组分室温硫化硅橡胶人工晶状体材料的表面,处理功率及时间分别为：20 W、50 W、100 W和30 s、1 min、3 min、10 min。应用视频光学接触角测定仪、傅里叶变换衰减全反射红外光谱和X射线光电子能谱分析材料表面亲水性和表面化学元素组成;扫描电子显微镜和原子力显微镜观察材料表面形貌。通过人晶状体上皮细胞黏附实验观察双组分室温硫化硅橡胶表面改性前后细胞的数量及形态改变。 结果与结论：最佳改性条件为100 W,30 s,20 mL/min,40 Pa。此条件改善了双组分室温硫化硅橡胶人工晶状体材料表面的亲水性,对材料表面无刻蚀作用,改善了人晶体上皮细胞在双组分室温硫化硅橡胶人工晶状体材料表面的生物相容性。