牙釉质EPR谱去卷积程序在剂量重建中的应用

目的探讨牙釉质电子顺磁共振(EPR)谱去卷积程序在小剂量区域剂量重建的应用。方法用编写的EPR谱拟合程序拟合一系列用不同小剂量照射过的牙釉质样品EPR谱，得到相应的剂量信号(RIS)强度，线性回归得到剂量响应曲线，并分析拟合精度。结果剂量响应曲线IRIS=14．04 0．768D(mGy)，r=0．997，SD=19．8mGy。结论这项技术将牙釉质EPR剂量重建的下限降低到约200mGy。     

优化牙釉质辐射剂量重建方法中的电子顺磁共振谱拟合程序

目的优化牙釉质电子顺磁共振（EPR）谱拟合程序。方法将牙釉质EPR谱拟合程序中的RIS-BGS偏移量设置为定参,取优化值;增加手动拟合功能,可以将参数初始值直接代入高斯模型得到拟合谱。结果将牙釉质EPR谱拟合程序中RIS-BGS偏移量设置为定参后,其优化值为0．529,减少了变参数量;采用手动拟合功能有助于调整参数初始值;在自动拟合程序对于个别样品谱不能给出正确结果情况时,仍然可以通过手动拟合来得到一个近似的拟合结果。结论优化了EPR谱拟合程序的应用过程。     

ETS对牙釉质EPR谱去卷积程序拟合结果的影响

牙釉质EPR剂量测定方法是通过测量射线在恒牙的釉质中产生的CO2^-自由基浓度，来获取牙釉质累积剂量的。虽然在高剂量的剂量重建中，样品管及微波腔信号（the EPR spectrum of the empty sample tube and the microwave cavity，ETS）的影响常可忽略，但在剂量较低时，这些因素就应当加以考虑。为了明确在低剂量范围ETS对剂量测定的影响程度，笔者通过测量，应用以高斯函数一阶微商数学模型为基础的去卷积程序，对不同剂量水平的样品谱进行拟合，观察ETS对程序结果的影响，并介绍ETS处理方法；同时讨论了该程序存在的其他问题及解决方案。     

对辐照牙釉质EPR谱数学模拟的研究

目的　建立辐照牙釉质EPR谱数学模拟方法。方法　采用高斯函数一阶微商作为基本的模型函数 ,编写基于Marquardt Levenberg非线性最小二乘法曲线拟合算法的计算程序模拟辐照牙釉质EPR谱 ,并检验拟合精度。结果　对 2 70和 84 0mGy辐照的牙釉质样品的EPR复合谱 ,拟合后的残谱分别为 - 1 6 1± 2 3 5 9和 - 3 77± 2 4 94 ,残谱均值和标准差分别占各自峰高的 0 3%、3 8%和 0 4 %、3%。结论　这种算法和模型函数能很好地模拟辐照牙釉质EPR复合谱。