不同抛光系统对纳米树脂表面粗糙度和菌斑黏附的影响

目的研究比较5种抛光系统处理纳米树脂后的表面粗糙度及其对细菌黏附程度的影响。 方法Filtek Z350 XT纳米树脂制作54个样本,随机平均均分为6组,每组9个。其中5组为实验组（抛光组）分别用OptiDisc、HiLuster^Plus、Sof-Lex、Super-snap以及Composite Polishing Kit CA0310等5种抛光系统修整、抛光,另1组不做抛光处理为对照组。激光共聚焦扫描显微镜测定样本表面粗糙度（Ra）。将上述样本与变异链球菌于体外混合培养24 h,测定其表面细菌黏附量。采用单因素方差（One-Way ANOVA）分析方法对样本表面粗糙度和生物膜菌落计数结果进行统计学分析。 结果实验组中HiLuster^Plus组的Ra值最低平均（0.196 ± 0.02）μm,与Composite Polishing Kit CA0310组相比差异有统计学意义（P= 0.016）;其余各实验组间Ra值无显著差异,均能达到较低的粗糙度值。5个实验组的细菌黏附量均低于对照组,差异有统计学意义（P<0.05）;5个实验组间的细菌黏附量差异无统计学意义（P>0.05）。 结论HiLuster^Plus抛光系统处理纳米树脂可获得较低的表面粗糙度。系统抛光可明显降低纳米树脂材料表面细菌黏附量。