微种植体颌骨植入区的CBCT测量分析

目的 利用锥体束CT（cone beam computed tomography,CBCT）分析上颌第二前磨牙与第一磨牙以及下颌第二磨牙近中颊根侧植入的微种植体周围组织结构。方法 收集34名患者的CBCT数据。上颌测量不同植入角度的颧牙槽嵴厚度及种植体与上颌平面间的距离;下颌测量不同植入高度牙槽骨各部位的最小植入角度以及颊侧骨厚度。结果 ①上颌距离平面13～17 mm植入微种植体,植入角度为40°～75°,上颌颧牙槽嵴厚度为（4.7±0.3）mm～（8.1±0.1）mm。②在下颌不同的植入点中,距离平面11 mm时植入角度应大于82°,距离平面16 mm时,植入角度应大于51°;距离平面11 mm第二磨牙颊侧牙槽骨厚度最小,距离平面16 mm时最大。③不同植入点中,以距离平面16 mm植入时至下颌神经管上缘的平均距离最小,为（9.0±1.6）mm。结纶 ①为保证上颌颧牙槽嵴骨厚度至少6 mm且不触及上颌窦底壁,理想的植入位置为距离上颌平面13～16 mm,植入角度55°～75°。②在第二磨牙近中根颊侧植入微种植体时,建议植入点与平面距离大于12 mm,植入最小角度依不同植入点而异     

种植支抗及J钩在Tweed矫正理念中的应用研究进展

［摘要］ 正畸治疗中正确的支抗设计、控制和应用是取得良好矫正效果的重要因素,传统的Tweed方丝弓矫正技术中系统的支抗预备在各类错牙合正畸技术的发展起到了关键的作用。现今临床上已有多种增强支抗的装置可供正畸医师选择,但仍不能起到绝对支抗的效果。因此,临床中伴有严重拥挤、深覆盖等不希望丢失支抗的病例,牙齿排齐和侧貌的改善受到影响,虽然口外装置是加强支抗的有效方法,但由于操作较繁复,在临床上患者常有排斥的心理,近年来正畸种植体支抗的出现,较好地解决了临床支抗选择的问题。但对于一些高角骨性Ⅱ类患者,使用传统口外支抗还是种植支抗,能起到患者面型最大改善的作用,Tweed理念中的支抗预备是否可以经由种植支抗的多方应用而起到更为符合现今正畸医师的操作理念的作用,这是现今临床中我们关注的问题。     

快速生长期骨性安氏Ⅱ类下颌后缩患者使用无托槽隐形矫治器前导下颌的临床效果分析

目的 评价无托槽隐形矫治技术MA(mandibular advance)矫治安氏Ⅱ类骨性下颌后缩畸形的临床效果。方法 收集符合条件的2018年1月至2021年5月至常熟市中医院口腔科就诊的处于生长发育高峰期的安氏Ⅱ类骨性下颌后缩19例患者资料，平均年龄(12.32±1.51)岁。10例患者经MA导下颌向前治疗。9例未治疗患者作为对照组。矫治前后或观察前后拍摄头颅定位侧位片。对X片测量并进行统计学分析。结果 与对照组相比，治疗组SNB、L1-NB、L1-NB距、L6-MP距、Z角治疗后明显增加(P<0.05);Co-Go、Co-Gn、SL增加量明显大于对照组(P<0.05);ANB、U1-SN、U1-NA、U1-NA距、L1-MP、FCA治疗后明显减小(P<0.05);治疗组SE无明显变化，而对照组明显增加(P<0.05)。结论 MA可以促进下颌发育，矫治下颌后缩畸形，改善骨性畸形和侧貌；且可以维持下前牙唇倾度及下颌平面角。