CAD/CAM全瓷冠边缘适合性的评价

目的：研究采用计算机辅助设计及制作系统（Kavo Everest）制作的氧化锆全瓷冠的边缘适合性。方法：选取1颗无龋的离体前磨牙行牙体预备,双重印模法取模,翻制20个相同尺寸的超硬石膏代型,将代型随机分为2组,分别制作10个金属烤瓷冠和10个Kavo Everest氧化锆全瓷冠。然后采用双色硅橡胶印模法复制间隙模型,应用光学显微镜采集间隙图像及使用AutoCAD2006软件对其厚度进行测量。结果：利用失蜡铸造法制作的金属烤瓷冠的垂直边缘间隙（69.6±29.7）μm,水平边缘间隙（56.1±20.8）μm,绝对边缘间隙（91.1±28.8）μm;利用CAD/CAM制作的氧化锆全瓷冠的垂直边缘间隙（51.4±19.9）μm,水平边缘间隙（41.1±16.8）μm,绝对边缘间隙（66.2±21.9）μm。两种系统制作的冠的水平边缘间隙、垂直边缘间隙、绝对边缘间隙均具有显著性差异（P〈0.05）。结论：利用Kavo Everest系统制作的全瓷冠具有良好的边缘适合性。     

In-ceram氧化锆基全瓷冠的适合性评价

目的评价3种In-ceFan3氧化锆基全瓷冠的边缘和内部间隙。方法制作In-Ceram YZ全瓷冠、In-ce-rainZirconia全瓷冠和Wolceram全瓷冠各12个,采用树脂粘接剂粘固于人工预备的离体上颌前磨牙上,经过温度循环试验后．沿近远中向和颊舌向片切试件,用扫描电镜观察并测量全瓷冠组织面与牙体组织之间的间隙,3组试件的数据用SPSS12．0软件进行统计学分析。结果3种全瓷冠的间隙宽度中,均是边缘间隙宽度最小,[牙合]面间隙宽度最大。In-CeramYZ全瓷冠的边缘间隙宽度为（19．86±1．81）μm,肩台间隙宽度为（92．66±0．64）μm,[牙合]面间隙宽度为（128．06±1．38）μm,在3种全瓷冠中最小;Wolceram全瓷冠的边缘间隙宽度为（29．43±0．84）μm,肩台间隙宽度为（117．89±1．73）μm。轴壁间隙宽度为（112．50±1．71）μm．[牙合]面间隙宽度（168．11±1．33）μm．在3种全瓷冠中最大。结论3种In-Ceram氧化锆基全瓷冠的间隙宽度均在临床可接受范围内,其中In-CeramYZ和In-CeramZirconia全瓷冠的边缘和内部间隙较Wolceram全瓷冠小。     

CAD/CAM全瓷冠与激光熔覆烤瓷冠边缘适合性的研究

目的比较CAD/CAM全瓷冠,选择性激光熔覆技术（selective laser melting,SLM）制作的全冠以及传统工艺铸造冠的边缘适合性差异,以期为临床提供参考依据。方法通过切削技术制作铝合金试件,且翻制前磨牙牙备后树脂试件30件,将试件分为SLM组、CAD/CAM组和铸造组（对照组）,分别制作钴铬合金全冠以及全瓷冠,在体视显微镜下观察各冠边缘与试件之间的距离。结果 SLM组的边缘间隙为（46.57±3.14）μm,CAD/CAM组为（45.24±2.25）μm,对照组为（68.54±7.57）μm。SLM组与CAD/CAM组的数据差异没有统计学意义（P〉0.05）,但两者与对照组的数据差异具有统计学意义（P〈0.01）。结论 3种方法制作的全冠适合性均在临床可接受的范围内,但采用SLM技术和CAD/CAM技术制得的全瓷冠其边缘适合性更接近美国牙科协会的标准,值得推广应用。     

不同设计和饰/釉瓷烧结对氧化锆种植全瓷冠内部和边缘适合性的影响

目的 研究氧化锆不同设计和饰/釉瓷烧结对种植全瓷冠内部和边缘适合性的影响。方法 采用Cercon计算机辅助设计及制作（CAD/CAM）系统制作3组黏结固位氧化锆种植全瓷冠,每组8颗（n=8）。A组（常规氧化锆烤瓷全冠组）：常规边缘氧化锆基底冠+饰瓷,B组（360°氧化锆颈环烤瓷全冠组）：360°氧化锆颈环冠边缘基底冠+饰瓷,C组（全解剖式氧化锆全冠组）：解剖形态氧化锆全冠+釉瓷。饰/釉瓷烧结前和烧结后采用硅橡胶分别复制氧化锆基底冠、氧化锆全瓷冠在基台就位后的内部及边缘间隙,Micro-CT扫描硅橡胶获得内部及边缘间隙图像,测量基底冠、氧化锆全瓷冠边缘垂直间隙（MG）、冠边缘水平间隙（ HMD）、肩台区间隙（CA）、轴面中点间隙（AW）、轴面和面交界处间隙（AOT）。采用SPSS 17.0软件对测量结果进行统计学分析。结果 不论饰/釉瓷烧结前还是烧结后,A组HMD均大于B组和C组（P<0.05）,B、C组HMD差异无统计学意义（P>0.05）,A、B、C三组间MG、CA、AW、AOT均无统计学差异（P>0.05）。饰/釉瓷烧结后,A组MG较烧结前明显减小（P<0.05）,A组HMD、CA、AW、AOT及B、C两组各部位间隙与烧结前相比均无统计学差异（P>0.05）。结论 360°氧化锆颈环烤瓷全冠和全解剖式氧化锆全冠的边缘适合性优于常规氧化锆烤瓷全冠,饰瓷烧结对常规氧化锆烤瓷全冠垂直间隙的影响最明显。     

CAD/CAM氧化锆底层冠适合性的实验研究

目的：用Photoshop cs对Cercon CAD/CAM制作的底层冠内部和边缘适合性进行评估,对其加工精度进行评价。方法：选择3名正畸患者拔除的第一前磨牙共计12颗。按全瓷冠要求进行牙体制备,要求向聚合度20°,肩台宽度1mm、120°凹面型,固定制备牙于扫描舱内,扫描其数字化代型图像。以隙料厚度30μm制作氧化锆底层冠,共12个。采用硅橡胶印模复制技术和图像分析系统测量底层冠内部和边缘适合性。结果：底层冠的边缘浮升量小于120μm、内部间隙小于200μm,内部和边缘适合性均达到临床要求。底层冠内部适合性的差异与测量位置有关。统计结果显示样本内部适合性不均匀,远中与近中相对位置间、颊侧与舌侧相对位置间有显著差异（P〈0.05）。近远中和颊舌侧间的边缘适合性差异有统计学意（P〈0.05）,近中与远中间边缘适合性有显著差异（P〈0.05）,颊侧与舌侧组间边缘适合性差异无统计学意义（P〉0.05）。结论：CerconCAD/CAM系统制作的氧化锆底层冠有良好的内部和边缘适合性;Photoshop cs软件是一种评估Cercon CAD/CAM底层冠适合性的简捷有效的方法。     

数字化口腔修复（18）--CAD／CAM全瓷冠与个性化基台的适合性

目的：比较不同计算机辅助设计和制造（ computer aided design／manufacture,CAD／CAM）全瓷冠与氧化锆个性化基台的边缘和内部适合性。方法：用CAD／CAM分别设计和加工氧化锆个性化基台和全瓷冠3组（ IPS e． max、Enamic和Suprinity）,每组各5个全瓷冠。通过微机断层扫描（ micro computed tomography,micro?CT）测量全瓷冠与氧化锆个性化基台的绝对边缘差异（ absolute marginal discrepancy,AMD）、轴面间隙（ axial gap,AG）、咬合间隙（ oc?clusal gap,OG）,比较不同材料全瓷冠与氧化锆个性化基台的边缘和内部适合性。结果：Enamic组分别与IPS e． max组和Suprinity组AMD之间的比较差异均具有统计学意义（P＜0．05）;而IPS e． max组与Suprinity组AMD之间的差异则无统计学意义（P＞0．05）。 Suprinity组分别与IPS e． max组和Enamic组AG之间的比较差异均具有统计学意义（P＜0．05）;IPS e． max组与Enamic组AG之间的差异不具有统计学意义（P＞0．05）。 Suprinity组、IPS e． max组和Enamic组3组OG之间的比较差异具有统计学意义（P＜0．05）。结论：不同的CAD／CAM全瓷冠材料影响其边缘和内部适合性。 Suprinity和IPS e． max陶瓷材料的边缘适合性优于Enamic材料,Suprinity材料全瓷冠的轴面间隙和咬合间隙最小。     

不同车针去除正畸粘接剂对牙表面粗糙度的影响

目的 比较不同釉质抛光法去除正畸托槽粘接剂后对牙釉质表面粗糙度的影响,为临床应用提供实验依据。方法 选取24颗因正畸治疗拔除的离体前磨牙,随机分为3组,金刚砂磨头组（A组）、金刚砂车针组（B组）和钨钢车针组（C组）,每组8颗牙,正畸粘接剂粘接后用不同方法去除并记录操作时间,再用橡皮轮抛光20s。表面粗糙度测量仪测量托槽粘接前、橡皮轮抛光前、后颊面正中部位表面粗糙度（Ra⁰、Ra¹、Ra²）,并作扫描电镜观察。结果 单因素方差分析显示：操作时间以及橡皮轮抛光前后表面粗糙度比较,A组与两组比较差异有统计学意义（P<0.05）,B组与C组无显著差异（P>0.05）;配对T检验结果显示3组表面粗糙度Ra²值最小,C组Ra⁰值与Ra¹值比较差异无统计学意义（P>0.05）,其余两组比较差异有统计学意义（P<0.05）;扫描电镜结果显示牙面光洁度C组优于B组优于A组。结论 钨钢车针去除正畸粘接剂效果最佳。     

不同粘接剂间隙对CAD/CAM嵌体边缘适应性的影响

目的 探讨不同粘接剂间隙对CAD/CAM嵌体氧化锆粘接强度的影响.方法 选取因正畸需要拔除的第一前磨牙30颗作为本研究对象,依照设置粘接剂间隙参数不同分为10μm(A组)、30μm(B组)、50μm(C组)制作嵌体;用轻体型硅橡胶复制边缘间隙,体视显微镜测量边缘间隙的厚度,使用SPSS13.0软件包对数据进行分析.结果 所有瓷嵌体均可顺利就位,测量数据均小于120μm,A组肩台间隙明显低于B组及C组(P<0.05),且B组轴面显著低于C组(P<0.05).结论 在粘接间隙设定为10~50μm时,CEREC制作瓷嵌体均可取得满意效果.     

不同玻璃渗透方法对In-Ceram氧化铝全瓷冠基底适合性的影响

目的:研究快、慢速玻璃渗透方法对In-Ceram氧化铝全瓷冠基底适合性的影响.方法:制做上颌第一前磨牙铝合金代型,翻制耐火石膏代型后按标准的快速与慢速玻璃渗透方法制作In-Ceram氧化铝全瓷冠基底试件共10个,粘结、包埋、片切.采用体式显微镜测量咬合面(A、A')、轴壁(B、B')和冠边缘(C、C')与代型之间的间隙.结果:慢速玻璃渗透组咬合面间隙为:A(41.23±4.22)μm,A'(39.85±6.26)μm,轴壁间隙为:B(37.94±3.90)μm,B'(33.51±6.71)μm,边缘浮出量为:C(35.87±7.99)μm,C'(36.49±8.73)μm.快速玻璃渗透组咬合面间隙为:A(41.47±11.81)μm,A'(34.71±8.52)μm,轴壁间隙为:B(38.21±5.55)μm,B'(34.03±6.29)μm,边缘浮出量为:C(35.36±5.69)μm,C'(32.10±6.59)μm.通过单因素方差进行统计学分析,快速玻璃渗透组和慢速玻璃渗透组各测量点之间的间隙无显著性差异(P>0.05),各组的边缘适合性均在临床要求范围内.结论:经快、慢速玻璃渗透法制作的In-Ceram氧化铝全瓷冠基底均具有良好的适合性,能满足临床应用要求.     

不同全冠修复体边缘适合性的比较

目的:比较钴铬合金冠、钴铬烤瓷冠、铸瓷全冠和氧化锆全瓷冠的边缘适合性。方法:选取正畸拔除的第一前磨牙24颗,随机分成A:钴铬合金、B:钴铬烤瓷、C:铸瓷、D:氧化锆全冠共4组,常规备牙、印模后分别制作修复体,玻璃离子粘固后在体式显微镜下放大40倍测量修复体边缘在垂直和水平方向上与牙体组织边缘之间的间隙宽度,用SPSS11.5进行统计分析。结果:水浴前A、B、C、D组平均边缘垂直间隙宽度分别为(82.5±13.3)、(66.3±9.2)、(44.7±5.8)和(45.8±18.3)μm,除C组与D组间差异无统计学意义外,其他各组间差异均有统计学意义(P<0.01);水浴后宽度分别为(101.8±9.5)、(80.1±9.8)、(52.8±6.6)和(53.0±8.1)μm,除C组与D组间差异无统计学意义外,其他各组间差异也均有统计学意义(P<0.001)。比较同组水浴前后A、B、C组有统计学差异,D组无统计学差异。样本颊舌向剖开后测得A、B、C、D组剖面冠边缘水平间隙宽度分别为(103.0±17.8)、(90.9±19.9)、(72.8±11.0)和(73.8±9.3)μm,除A组与C组、A组与D组间差异有统计学意义外,其他各组间差异均无统计学意义。结论:铸瓷和氧化锆全瓷冠的边缘适合性优于钴铬合金冠和钴铬烤瓷冠。     

国产CAD/CAM系统的全冠边缘适合性研究

目的　探讨国产CAD/CAM系统的全冠边缘适合性。方法　以 1例患者的一颗需要全冠修复的下颌第一磨牙为研究对象 ,按照全瓷冠的要求牙体预备后 ,制取印模 ,翻制 10副模型 ,利用吕培军等人研制的CAD/CAM系统制作 10颗全冠 ,在扫描电镜下观测全冠边缘和预备体之间的间隙大小。结果　全冠边缘和预备体之间的间隙均值和标准差分别为 :颊侧 12 4 .9μm± 2 5 .5 μm,舌侧 12 5 .7μm± 4 6 .6 μm,近中 14 7.8μm ± 14 .6 μm,远中196 .5 μm± 34.8μm。所有间隙的均值和标准差为 14 0 .9μm± 4 3.8μm。结论　国产CAD/CAM系统制作的全冠 ,其边缘适合性在临床上可以接受 ,具有很好的发展前景。     

不同邻面抛光方法对牙釉质表面粗糙度及表面形貌的影响

目的：评价4种邻面抛光方法对邻面釉质表面粗糙度及显微形貌的影响,为邻面抛光方法的选择提供依据。方法：选择21颗离体牙前磨牙,沿颊舌面中线纵剖后获得邻面釉质试件42枚,再用自凝塑料包埋,暴露邻面釉质,用浮石粉抛光,并超声清洗。将42个试样均分为6组,分别作如下处理：A组空白对照,不做处理;B组：阴性对照,采用标准金刚砂车针切磨触点及其周围釉质,切磨后不抛光;其余4组为实验组,经标准金刚砂车针切磨后分别采用以下方法抛光：C组：极细粒度金刚砂车针抛光;D组：裂钻抛光;E组：矽粒子抛光;F组：彩虹抛光条抛光。之后用粗糙度仪测定釉面粗糙度,并进行扫描电镜观察。结果：标准金刚砂车针切磨后粗糙度大幅度增加（P〈0.05）,釉质表面发生明显条形凹陷性缺损;经4种方法抛光后,釉质表面粗糙度均有显著下降（P〈0.05）,显微形貌均较阴性组光滑,其中矽粒子抛光组可达到较空白对照组更为光滑的表面。结论：实验涉及的4种不同邻面抛光方法均有助于降低釉质切磨区域的表面粗糙度,但抛光效果存在差异;采用矽粒子抛光可完全抵消牙体预备时旋转器械对邻牙邻面的切磨作用,获得最为光滑的釉质表面。     

不同工艺制作钴铬合金基底冠适合性的实验研究

目的：：对比3种不同工艺制作的钴铬合金基底冠适合性。方法：制作18个树脂代型,随机分为A、B、C 3组,分别采用传统铸造技术、CAD/CAM技术、直接金属激光烧结技术制作钴铬合金基底冠各6个。将基底冠粘固于对应的树脂代型上并包埋片切。测量钴铬合金基底冠边缘及内部粘固剂的厚度。对实验数据进行统计学分析。结果：3组试件边缘间隙分别为A组(66.08±3.90)μm, B组(29.21±3.31)μm,C组(24.96±2.99)μm(P<0.01);3组试件内部间隙分别为A组(114.10±27.66)μm,B组(73.69±31.31)μm,C组(79.89±33.63)μm(A组与 B或 C组比较, P<0.01, B组与 C组比较, P>0.05)。结论：直接金属激光烧结技术制作的钴铬合金基底冠具有更好的边缘适合性;CAD/CAM技术及直接金属激光烧结技术制作的钴铬合金基底冠具有良好的内部适合性。3种技术制作的基底冠边缘及内部适合性均在临床允许范围内。     

电子束熔融（EBM）技术3D 打印纯钛冠的适合性研究

目的：评价电子束熔融（EBM）技术3D 打印纯钛单冠的适合性。方法：用 EBM、选择性激光熔覆（SLM）、2种CAD／CAM系统（R ＋K 公司与 DMG 公司）及常规铸造法（LW）分别制作纯钛单冠各5个,用硅橡胶法在体式显微镜下测量边缘及内部垂直间隙。SPSS17．0软件对实验数据进行单因素方差分析。结果：纯钛单冠的边缘和内部间隙（μm）分别为：EBM组38．42±6．72、105．54±33．18,SLM组38．63±6．82、114．63±52．18,DMG CAD／CAM组26．18±4．36、102．18±40．81,R ＋K CAD／CAM组26．98±4．44、102．24±25．30,铸造组42．61±5．73、102．98±45．67。EBM组边缘平均垂直间隙明显小于临床普遍接受的120μm 的标准,2个 CAD／CAM组边缘间隙均小于其他3组（P ＜0．05）,5组纯钛冠的内部整体适合性无统计学差异（P ＞0．05）。结论：EBM3D 打印技术制备纯钛单冠的边缘适合性与 SLM技术相似,优于铸造法,小于 CAD／CAM法;内部适合性与其他技术无差异。     

氧化锆个性化基台与钛基边缘适合性研究

目的比较不同品牌的CAD/CAM氧化锆个性化基台与钛基之间的适合性。方法用CAD/CAM分别设计和加工3种氧化锆个性化基台(日进、爱尔创和卡瓦),每种5个。通过扫描电子显微镜,测量氧化锆个性化基台与钛基之间的边缘间隙(MG),比较3种氧化锆个性化基台与钛基之间的边缘适合性。结果卡瓦组(7.19±2.98)μm与日进组(10.25±6.25)μm和爱尔创组(9.87±5.48)μm的边缘间隙的差异具有统计学意义(P<0.05);爱尔创组与日进组的边缘间隙的差异无统计学意义(P>0.05)。结论不同的材料直接影响个性化基台与钛基之间的适合性。在个性化基台与钛基的边缘适合性方面,卡瓦氧化锆明显优于日进及爱尔创氧化锆。     

不同粘接剂去除方式对釉质微观结构及托槽抗剪切粘接强度的影响

目的 对比研究5种不同牙面残留粘接剂去除方式对釉质及托槽抗剪切粘接强度(shear bond strength,SBS)的影响。方法 选取66颗离体前磨牙,随机分为6组。A组:空白组,牙面不做任何处理;B组:金刚砂车针处理组;C组:绿砂石处理组;D组:慢速钨钢钻处理组;E组:慢速钨钢钻+抛光杯处理组;F组:慢速钨钢钻+硅粒子处理组,用上述处理方法对各组等量粘接剂样本进行磨除,记录操作时间,分别用扫描电镜和表面粗糙度仪对釉质表面进行定性和定量评价。各组处理样本粘接金属托槽后,应用万能力学测试仪检测各组托槽SBS,分析牙面粘接剂残留指数(adhesive residual index,ARI)。结果 B、C组去除效率较高,E组效率最低;扫描电镜显示F组处理后的釉质形态最接近正常牙釉质;F组表面粗糙度最低((0.48±0.13)μm),与A组无统计学差异(P＞0.05);D组托槽再粘接强度最高((16.61±1.99)MPa),明显高于A组(P<0.05);各组托槽去除后的ARI指数无显著性差异(P＞0.05)。结论 金刚砂车针及绿砂石去除效率较高,但对釉质损伤较大;慢速钨钢钻配合硅粒子抛光后对釉质的损伤最低,且去除效率在可接受范围;直接慢速钨钢钻处理后的牙面托槽SBS最高。     

两种肩台形态对全瓷高嵌体边缘适合性的影响

目的研究肩台形态对CERE Cinlab牙科计算机辅助设计一计算机辅助制造（computer aided design／computeraided manufacturing,CAD／CAM）系统制作的氧化锆全瓷高嵌体边缘适合性的影响。方法选取2颗离体第一磨牙行高嵌体牙体预备,1颗制备直角肩台,1颗制备凹形肩台。2颗牙分别用二次印模法取模,分别翻制5个相同尺寸的超硬石膏代型,并采用CAD／CAM技术制作5个全瓷高嵌体。然后用树脂加强型玻璃离子粘固,在体视显微镜下观察并测量冠边缘与代型边缘之间的间隙。结果直角肩台全瓷高嵌体的边缘间隙为（57．58±14．94）μm,凹形肩台全瓷高嵌体的边缘间隙为（61．98±12．84）μm,均在适合范围内。两种肩台全瓷高嵌体的边缘间隙大小差异无统计学意义（t=4．88,P〈0．01）.结论直角肩台和凹形肩台均可以满足全瓷高嵌体的边缘适合性要求。     

不同旋转器械对基牙牙本质表面粗糙度及显微形貌的影响

目的评价不同旋转器械对基牙牙本质表面粗糙度及显微形貌的影响,为临床牙体预备过程中旋转器械的选择使用提供参考。方法选择54颗离体牙,均分为3组,使用不同的预备方式对唇面进行预备。A组：标准金刚砂车针预备;B组：标准金刚砂车针预备,极细粒度金刚砂车针修整;C组：标准金刚砂车针预备,钨钢车针修整。之后用粗糙度仪测定牙本质表面粗糙度（Ra、Rq和Rz）,并进行扫描电镜观察,对其结果进行统计学处理。结果 3种预备方式后的牙本质表面粗糙度Ra存在显著差异（P〈0.05）;粗糙度由大到小依次为：A组〉B组〉C组。结论不同旋转器械切磨牙本质所得表面粗糙度不同,使用极细粒度金刚砂车针和钨钢车针修整可获得较为光滑的牙体预备体表面。     

不同数字印模方式影响全瓷冠边缘适合性的研究

目的 研究硅橡胶印模扫描、直接光学印模和传统的物理印模对计算机义齿辅助设计与制作全瓷冠边缘适合性的影响。方法 用数控车床制备聚甲基丙烯酸甲酯材质下颌第一磨牙标准全冠预备体16个,采用硅橡胶制取精细印模,超硬石膏灌注翻制成石膏模型。分别采用扫描全冠预备体、硅橡胶印模和石膏模型获取数字化模型,制作48个氧化锆全瓷冠。采用间隙印模测量法评价3组冠的边缘间隙,应用SPSS 17.0软件对实验数据进行统计分析。结果 直接扫描组、硅橡胶印模组、超硬石膏组的全瓷冠边缘间隙测量结果分别为（69.18±9.47）、（81.04±10.88）、（84.42±9.96） μm。直接扫描组与硅橡胶印模组、超硬石膏组差异有统计学意义（P<0.05）,硅橡胶印模组与超硬石膏组之间差异无统计学意义（P>0.05）。结论 直接扫描、硅橡胶印模扫描、石膏模型扫描法全瓷冠的边缘适合性均在临床可接受范围之内,硅橡胶印模扫描可作为临床上获取数字模型的方式之一。     

激光熔覆技术烤瓷冠边缘适合性的实验研究

目的通过对传统失蜡铸造和激光熔覆两种技术制作的钴铬合金烤瓷冠以及浅凹型和直角肩台型两种牙体预备形态制作的激光熔覆技术烤瓷冠的边缘适合性进行比较,以探讨激光熔覆技术烤瓷冠的边缘适合性。方法选取上颌前磨牙30颗,随机分成3组,每组10颗,按烤瓷冠要求常规牙体预备。A、B组用浅凹型边缘,C组用直角肩台。A组为传统失蜡铸造钴铬合金烤瓷冠,B、C组为BEGO德贝尔激光熔覆技术钴铬合金烤瓷冠;3组全用聚羧酸锌水门汀粘结剂粘固,经环氧树脂包埋后,沿颊腭向中间剖开烤瓷冠和牙体,用金相显微镜及电子显微镜观察和测量各组的颊、腭侧冠边缘间隙的大小。结果 A组烤瓷冠的水平边缘间隙为79.61±11.45μm,垂直边缘间隙94.90±7.09μm,绝对边缘间隙114.94±8.60μm;B组激光熔覆技术钴铬合金烤瓷冠的水平边缘间隙67.76±9.20μm,垂直边缘间隙82.54±9.92μm,绝对边缘间隙105.35±9.84μm;C组激光熔覆技术钴铬合金烤瓷冠的水平边缘间隙72.72±9.03μm,垂直边缘间隙88.11±9.53μm,绝对边缘间隙102.48±9.15μm。B组与A组比较差异有统计学意义（P〈0.05）;B、C组之间的差异无统计学意义（P〉0.05）。结论激光熔覆技术钴铬合金烤瓷冠边缘水平边缘间隙、垂直边缘间隙、绝对边缘间隙均小于120μm,均达到临床可接受的范围内。激光熔覆技术钴铬合金烤瓷冠比传统失蜡铸造钴铬合金烤瓷冠边缘适合性更好。牙体预备采用浅凹型（B组）和直角肩台型（C组）制作的激光熔覆技术钴铬合金烤瓷冠边缘适合性无明显差异。